三星电子1c DRAM芯片良率突破80% 进入稳定生产阶段
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2026-02-24 18:20:45
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【CNMO科技消息】据韩媒消息,三星电子在10纳米级第6代DRAM“1c”生产上取得重要进展,其良率已突破80%,正式进入稳定生产阶段,这预计将助力其提升技术竞争力并改善收益。

据悉,三星电子内部已确认1c DRAM良率达到80%,这是在高温环境(热测试)下取得的最佳良率成绩。此前在去年第四季度,1c DRAM良率还处于60—70%的水平,如今已成功提升。

良率是指生产的产品中合格品的比重,80%的良率意味着生产100个DRAM,其中有80个是合格品。通常,DRAM的稳定良率被认为在80—90%,达到这一水平才能最大化DRAM的收益。有业内人士透露,预计到5月左右,1c DRAM良率将达到90%左右,凭借高良率有望大幅提升半导体收益。

近期DRAM价格持续上涨,营业利润大幅增加,三星电子凭借稳定的良率有望进一步提升利润率。不仅如此,以1c DRAM为基础制造的下一代高带宽内存(HBM)“HBM4”的良率也得到了改善,目前三星电子HBM4的良率已接近60%,去年第四季度还处于50%的水平。

1c DRAM是三星电子的战略产品,是拥有11—12纳米电路线宽的DRAM。三星电子DS部门副会长全英贤曾亲自指挥设计改进工作,旨在确保DRAM的核心竞争力,同时提升堆叠DRAM制成的HBM能力。

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