江西汉可申请沉积高质量氮化硅薄膜专利，提高了氮化硅薄膜的质量
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2025-05-14 20:00:52
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金融界 2025 年 5 月 14 日消息，国家知识产权局信息显示，江西汉可泛半导体技术有限公司申请一项名为“一种沉积高质量氮化硅薄膜的方法及其系统”的专利，公开号 CN119980184A，申请日期为 2025 年 3 月。
专利摘要显示，本发明涉及一种沉积高质量氮化硅薄膜的方法，其使用热丝化学气相沉积技术，包括：将布置在工艺腔中的热丝采用小电流预热；将预热后的热丝采用大电流加热并向工艺腔中通入氨气，控制工艺腔的压力进行反应；保持热丝采用大电流加热和通入氨气，向工艺腔中通入硅烷，控制工艺腔的压力进行反应；继续保持热丝采用大电流加热并继续保持通入氨气，对工艺腔不控压；将采用大电流加热的热丝降温至采用小电流进行加热缓冲。此外，本发明还涉及一种 HoFCVD 系统。本发明有效解决了硅烷优先于氨气分解的问题，提高了氮化硅薄膜的质量。本发明也能完美解决 PECVD 设备镀膜衬底温度过高导致的非晶硅膜层损坏及 ALD 设备镀膜速率慢导致的产能不足问题。
天眼查资料显示，江西汉可泛半导体技术有限公司，成立于2021年，位于九江市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本620.4379万人民币。通过天眼查大数据分析，江西汉可泛半导体技术有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目17次，财产线索方面有商标信息12条，专利信息46条，此外企业还拥有行政许可22个。
来源：金融界
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